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USB-C PD快充端口在支持20V-48V高电压传输的同时,需满足便携式设备对低功耗的严苛要求。ESD保护器件的耐高压能力与漏电流、结电容等低功耗指标之间存在结构性制约关系。本文从器件物理结构、工程化选型策略、以及复合型集成方案三个维度,系统解析这一技术矛盾的成因与化解路径,并基于实测数据推荐适用于PD 3.1 EPR(扩展功率范围)的ESD防护方案。
ESD保护器件的核心结构为PN结,其耐压能力与漏电流、结电容之间存在由半导体物理决定的内在制约关系。
击穿电压与漏电流的反向关联: 提高ESD器件的反向工作电压(VRWM)需增加PN结的耗尽区宽度,这通常通过降低掺杂浓度或增加结深实现。然而,低掺杂浓度会导致反向偏置时的空间电荷区展宽,在相同电场强度下产生更多的热生载流子,从而增大漏电流(IR)。实测数据显示,24V耐压的TVS二极管在25℃环境下的漏电流通常为10-100nA,而5V耐压器件可低至0.01-0.1nA,两者相差2-3个数量级。
耐压与结电容的正相关: 高耐压器件需要更厚的耗尽层以承受高电压,这直接导致结电容(Cj)增加。根据平行板电容器原理,结电容与耗尽层宽度成反比。5V ESD器件的结电容可做到0.15-0.3pF,而24V耐压器件的结电容通常需5-10pF才能维持相同的击穿电压裕度。对于USB-C的CC(配置通道)引脚,若采用24V耐压TVS(如PESD12VV1BSF),其17pF的结电容将严重破坏USB PD协议的480MHz通信信号完整性。
动态电阻与钳位电压的权衡: 高耐压器件在ESD事件中的动态电阻(Rdyn)通常较高,导致钳位电压(Vc)随峰值电流(IPP)上升而显著增加。传统TVS在24V工作电压下,Rdyn可能达0.5-1Ω,在16A ESD电流下产生8-16V的附加压降,使总Vc超过后端芯片的耐压极限。低功耗设计倾向于选择低Vc器件以减少能量耗散,但这与高压耐受能力形成直接冲突。
温度对制约关系的放大效应: 漏电流随温度指数增长,25℃至85℃范围内,硅基TVS的漏电流可能增加10-100倍。高耐压器件由于本征载流子浓度更高,温度系数更为陡峭。对于需支持-40℃至+85℃工业温度范围的USB-C设备,高温漏电流可能从nA级升至μA级,显著影响电池续航。
针对USB-C端口的特殊架构,工程上通过分域防护、参数匹配与电路优化,在耐高压与低功耗之间实现可控折中。
CC/SBU引脚的分层防护架构: USB-C的CC(配置通道)与SBU(边带使用)引脚紧邻VBUS,在插拔过程中存在短路至20V-28V高压的风险。直接采用24V TVS虽可耐受高压,但其高结电容(>5pF)将破坏USB PD协议的BMC(双相标记编码)通信。阿赛姆的解决方案采用分层防护:第一级使用24V耐压器件(如ESD24D系列)承受VBUS短路,第二级通过快速开关(OVP FET)在80ns内切断故障通路,将系统侧电压钳位至5.5V以下。该架构在CC引脚实现24V DC耐受的同时,将有效结电容降至0.25pF以下,满足USB PD 480MHz通信要求。
VBUS电源线的功耗优先策略: VBUS引脚传输功率而非高速信号,对结电容不敏感,但需承受PD 3.1 EPR的28V-48V电压。此场景下优先保障耐压与通流能力,漏电流控制退居次要。阿赛姆TVS5Z5A系列针对VBUS设计,工作电压28V,峰值脉冲电流8A(8/20μs),钳位电压12V,漏电流控制在1μA@25℃水平。对于100W以上快充,推荐采用TDS(瞬态分流)技术器件,其在额定电流范围内保持恒定钳位电压,比传统TVS低30%,减少功率耗散。
高速差分线的电容极致优化: USB 3.2 Gen2(10Gbps)与USB4(40Gbps)的TX/RX差分对需结电容低于0.3pF。此类线路工作电压仅3.3V或5V,无高压暴露风险,应选用超低电容ESD器件而非高耐压TVS。阿赛姆ESD3V3E0017LA结电容0.17pF,工作电压3.3V,钳位电压5V,漏电流<0.1nA,在10Gbps速率下插入损耗仅0.12dB,误码率<10⁻¹²。
温度补偿与漏电流预算: 便携设备需建立全温度范围的漏电流预算。以500mAh电池、待机7天的TWS耳机为例,若允许待机漏电流占总容量5%(25mAh),则平均漏电流需<150μA。分配到USB-C端口的ESD器件,高温漏电流应<1μA。阿赛姆车规级器件通过AEC-Q101认证,在85℃下漏电流<0.7μA,125℃下<1μA,满足严苛功耗约束。
布局优化降低有效电容: 即使选用低电容器件,不当布局仍会引入寄生参数。ESD器件应紧靠Type-C连接器放置(距离<3mm),地线直接连接至完整地平面,避免经过连接器地针形成长回流路径。差分对的两路ESD器件需严格对称布局,通道间电容偏差控制在±0.02pF以内,防止共模噪声转换。
针对USB-C端口的多引脚、多电压、多速率特性,分立器件方案已难以兼顾所有约束,集成式保护方案成为化解耐高压与低功耗矛盾的有效路径。
OVP+ESD集成保护器: 德州仪器TPD4S481-Q1与阿赛姆同类方案采用集成OVP(过压保护)FET与ESD二极管的架构,为CC1/CC2/SBU1/SBU2提供28V耐压与IEC 61000-4-2 ESD保护。内部OVP FET在检测到过压时80ns内关断,将高压与后端控制器隔离;ESD二极管则提供±8kV接触放电与±15kV空气放电保护。该方案将传统需3-4颗分立器件的功能集成于3.5×3.5mm QFN封装,系统侧漏电流仅5μA,较分立方案降低60%。
智能功率路径管理: 对于支持PD 3.1 EPR 240W(48V/5A)的端口,阿赛姆推荐采用带电流监测的集成保护方案。此类方案在VBUS路径集成低阻抗(<20mΩ)功率MOSFET,正常工作时功耗<50mW;在检测到短路或ESD事件时快速切断,保护后端buck-boost转换器。相较于传统TVS的恒定的漏电流损耗,智能方案仅在故障时产生功耗,显著延长待机时间。
多通道阵列的一致性控制: USB-C端口含2路CC、2路SBU、4路高速差分对,共需8-10路ESD保护。分立方案难以保证通道间参数一致性。阿赛姆ESD5D100TA四通道阵列采用单片集成工艺,四通道结电容偏差<±0.02pF,确保差分信号的对称性。阵列封装(DFN-10)较4颗分立0402器件节省60% PCB面积,且消除了器件间走线引入的寄生电感。
Trench MOS工艺的低电容突破: 传统平面工艺TVS的结电容与耐压成正比,而阿赛姆采用的Trench MOS(沟槽栅)工艺通过三维结构优化,在24V耐压下实现0.25pF结电容,较平面工艺降低一个数量级。该工艺在硅片表面刻蚀深沟槽,增加有效结面积以分散电场,在不增加芯片面积的前提下提升耐压能力,同时保持低电容特性。
回扫型(Snap-back)技术降低钳位电压: 阿赛姆部分型号采用可控硅回扫结构,在ESD触发后进入低阻导通状态,钳位电压可降至击穿电压的30-40%。例如ESD24D系列在24V工作电压下,触发后Vc可维持在8V以下,远低于传统TVS的16-20V,为后端芯片提供更大安全裕量,同时减少ESD事件中的能量耗散。
深圳市阿赛姆电子有限公司针对USB-C PD快充的耐高压与低功耗矛盾,提供分层、分域的完整解决方案。
CC/SBU引脚高压低电容方案: ESD24D系列工作电压24V,结电容0.25pF,支持IEC 61000-4-2 Level 4(±8kV接触/±15kV空气),通过AEC-Q101认证。该系列采用Trench MOS工艺,在24V耐压与0.25pF电容间实现行业领先的平衡,适用于PD 3.0 20V及PD 3.1 EPR 28V场景。
VBUS高压功率保护: TVS5Z5A系列工作电压28V,峰值脉冲电流8A,钳位电压12V,漏电流<1μA@85℃。针对48V EPR应用,阿赛姆提供56V耐压方案,通流能力达40A,满足PD 3.1 240W快充的浪涌防护需求。
高速差分线超低电容方案: ESD3V3E0017LA结电容0.17pF,工作电压3.3V,支持USB4 40Gbps与Thunderbolt 4,插入损耗<0.15dB@10GHz。ESD5C030TA结电容0.3pF,工作电压5V,适用于USB 3.2 Gen2 10Gbps。
集成保护方案: 阿赛姆提供与TI TPD4S481、WP5401引脚兼容的国产替代方案,单芯片集成4通道28V OVP与ESD保护,响应时间<100ns,系统侧漏电流<5μA,支持-40℃至+125℃车规温度范围。
技术支持体系: 阿赛姆深圳EMC实验室配备USB-IF认证测试设备,可执行眼图测试、S参数扫描、PD协议一致性验证。针对耐高压与低功耗的权衡需求,提供从威胁等级评估、器件选型、PCB布局到实测验证的全流程支持。
USB-C快充端口ESD管的耐高压与低功耗矛盾源于半导体器件的物理结构制约,但通过分域防护策略(CC/SBU高压低电容、VBUS高耐高流、高速线超低电容)、集成式OVP+ESD架构、以及Trench MOS等先进工艺,这一矛盾可在工程层面有效化解。选型时需避免单一器件满足所有引脚的误区,而应根据各引脚的电压暴露风险、信号速率、功耗预算进行差异化设计。阿赛姆通过完整的产品矩阵(24V/28V/48V耐压覆盖,0.17pF-5pF电容分级)与EMC实测验证能力,为USB-C PD快充提供兼顾高压安全与低功耗的ESD防护方案。
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